2030-ban indítja a High-NA gyártást a TSMC
- A TSMC 2030-ban kezdi meg a High-NA EUV litográfia alkalmazását a tömegtermelésben, kezdetben hagyományos fotomaszkok használatával.
2030-ban indítja a High-NA gyártást a TSMC · Kínai chipgyártók halmozzák fel az ASML gépeit · Intel: Sorozatgyártásban a High-NA EUV technológia